為了降低半導體光刻機(曝光機)的對外依賴,中國近年持續投入大量資金研發國產光刻機。中國同濟大學校長、中國科學院院士楊金龍近日在同濟大學畢業典禮致辭時,意外透露中國國產光刻機已可以穩定生產7奈米晶片。 《詳全文…》 ETtoday 大陸新聞
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